MEB550S4超高真空磁控溅射及电子束蒸镀系统

MEB550S4超高真空磁控溅射及电子束蒸镀系统

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2022-08-30 10:51:19
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上海续波光电技术有限公司

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产品简介

MEB550S4超高真空磁控溅射及电子束蒸镀系统

详细介绍

关键词:磁控溅射、电子束蒸镀、超高真空、金属膜、氧化膜、约瑟夫森结、超导、量子器件、量子比特、

                多腔体、Qubit、UHV、铌基超导、氮化铌、钛氮化铌、NbTiN、NbN、sputtering system

                Evaporation system、Nb-based superconductor、超导铝结、Josephson junction

 

型号:MEB 550S4      产地:欧洲;    应用:沉积Al、Nb、NbN、NbTiN等各种超导结

 

 

磁控溅射和电子束蒸发镀膜一体机是纳米器件制备中的仪器,用于制备各种高纯金属薄膜和氧化物薄膜。开展量子计算机实验研究,如基于金刚石NV色心,离子阱,超导量子结,量子点电子自旋的研究,均需要蒸镀/溅镀各种高质量金属薄膜来制备量子器件。

配置概要:

1、 系统配有多个腔室:UHV蒸发室、UHV溅射室等,用于制备约瑟夫森结。

2、 电子束蒸发源:(4-6)x 15cc,6-15KW,2-10KV可调。

3、 溅射室配有多个磁控靶源,每个靶源有独立的挡板,配备独立气路。

4、 可以注入多种气体,进行氧化处理,并且可控制其压强。

5、 样品台可以适用于3英寸以上晶片,且具有样品台倾斜和旋转功能。

6、 样品衬底在镀膜前可以通过离子枪进行清洁。

7、 主要真空腔真空度可达10-9 Torr。

8、 可以沉积几乎任何金属及氧化物薄膜。

9、 蒸镀厚度控制速度分辨率: 0.001nm/s

10、 整个系统全自动控制,支持半自动和手动模式。

代表用户:数个超导及量子器件研究实验室。

 

详细信息,请联系我们!

 

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