资料下载：PLASSYS 约瑟夫森结制备系列系统(磁控溅射,电子束蒸镀).pdf[786KB]

资料下载：微波等离子体化学气相沉积系统、磁控溅射、电子束蒸镀、反应离子束刻蚀.pdf[903KB]

微波等离子化学气相沉积系统特点概述

适用范围：生长大面积金刚石薄膜(4-8英寸，甚至更大)

生长速度：可高达几μm-几十μm/h，甚至更高；

大面积光学级金刚石厚膜生产研究型：

微波功率：915MHz，36KW / 54kW；

反应腔体：铝合金+石英管；

水冷衬底：直径150mm或更大; 衬底旋转可选.

真空系统：干泵+TMP（营造高真空基准）；

控制系统：全自动（适合大批量生产）；

生长速率：up to 5μm/h, 或更 高速率

整体特点：专门大面积金刚石薄膜研究及生产配置；可获得4’’-8’’光学级金刚石厚膜（several mm thicknesses），也可以用于研究合成diamond dome.

生长大面积光学窗口、探测窗口、微波窗口等，请详细咨询！