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面议PMMA正性光刻胶
PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)是一种通用的聚合材料,适用于许多成像和非成像微电子系统。PMMA光刻胶是将PMMA聚合物溶解在诸如苯甲醚之类的安全溶剂中,曝光会导致聚合物链断裂。PMMA作直写式电子束的高分辨率正性光刻胶,它具有的分辨率,易于处理和出色的薄膜特性。PMMA还可用作晶圆薄化的保护涂层,粘结粘合剂和刻蚀层。
材料用途:
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共聚物光刻胶是基于PMMA和〜8.5%甲基丙烯酸的混合物。共聚物MMA(8.5)通常与PMMA结合使用在双层剥离抗蚀剂工艺中,该工艺需要独立控制CD尺寸和每个光刻胶层的形状。标准共聚物光刻胶是在乳酸乙酯中配制的,并且可以在很宽的膜厚范围内使用。