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面议电化学工作站Reference 600+
面议ZENNIUM pro 电化学工作站
面议Ivium 电化学工作站2
面议Zennium XC电化学工作站/电化学分析仪
面议特点:
• 耐酸碱保护胶
• 不含光敏物质,无需黄光室
• 在40% KOH或50% HF酸中可长时间稳定
• 通过双层工艺可实现正性(AR-P 3250) 或负性(AR-N 4400-05/10)光刻工艺
旋涂曲线:
应用实例: