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面议特点：
• 用于高灵敏度电子束曝光、混合曝光等
• 感光波段：e-beam、deep UV(248 nm)
• 紫外曝光波段：
负胶：248nm~265nm & 290nm~330nm
• 化学放大胶，高灵敏度
• 良好的耐干法刻蚀能力
