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面议瑞士万通PGSTAT302N电化学工作站
面议电化学工作站Reference 600+
面议ZENNIUM pro 电化学工作站
面议Ivium 电化学工作站2
面议Zennium XC电化学工作站/电化学分析仪
面议特点:
• 用于耐刻蚀工艺、电镀、LIGA、MEMS等
• 感光波段:Broadband UV、i-line(365nm)
g-line(436nm)、 e-beam、X-ray、synchrotron
• 涂胶厚度从几微米到上百微米不等
• 覆盖能力强,分辨率高,图形边缘结构陡直
• 化学放大胶,具有非常高的灵敏度
• 可得到undercut结构,用于lift-off工艺
• 可替代SU8胶