Photomask clean 清洗机

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参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2022-11-18 09:29:01
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福芯科技(香港)有限公司

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产品简介

Photomask clean 清洗机

详细介绍

适应方形基片尺寸：8×8inch基片用途：可用于掩膜版表面污染物的清除。
清洗方式：是由电机通过夹持机构带动掩膜板做离心式旋转。
配合常压水清洗
高压水清洗
兆声波清洗
毛刷（Brush）清洗
有机溶剂清洗等方式作用：其中0.5微米以上颗粒的去除率接近99%。
再小于的颗粒去除率可根据客户要求提供技术指标。

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