技术规格：

本系统由进样室、硫化/硒化室、两个溅射室（3靶位+4靶位）、溅射控制系统、加热系统、真空测量系统、泵抽系统、样品传输控制系统、气氛控制系统、水循环制冷系统、完成样品制备过程电控系统及电脑/触摸屏程序控制系统等组成；

系统配置可在真空环境条件下移动样品的机械手臂，实现样品在腔体之间的移动,样品在腔室之间传递动作完成后15分钟内相关腔室真空度恢复到样品传递之前的水平；

两溅射室可分别实现3靶位和4靶位的靶材共溅射，相互之间电源等系统无相互干扰，各靶材单独溅射不受其他靶材的影响，且不污染其它靶材；

系统具有完善的自动保护功能,其中硒化/硫化炉的抽气入口具有防蒸汽侵蚀保护措施；

各室结构材料均采用上等不锈钢材料，氩弧焊接和表面抛光处理。