功能：

1. 对金属、玻璃、硅片、陶瓷、塑料、聚合物表面的有机污染物 （如石蜡、油污、脱膜剂、蛋白等）进行超清洗。

2. 改变某些材料表面的性能。

3. 使玻璃、塑料、陶瓷等材料表面活化，加强这些材料的粘附性、相容性和浸润性。

4. 清除金属材料表面的氧化层。

优点：

1. 对各种几何形状、表面粗糙程度各异的金属、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等物件表面进行超清洗和改性。 

2. 绿色环保、不使用化学溶剂、对样品和环境无二次污染。

3. 在常温条件下进行超清洗，对样品非破坏性处理。

应用领域：

1. 光学器件、电子元件、半导体元件、激光器件、镀膜基片、终端安装等的超清洗。

2. 清洗光学镜片、电子显微镜片等多种镜片和载片。

3. 移除光学元件、半导体元件等表面的光阻物质，去除金属材料表面的氧化物。

4. 清洗半导体元件、印刷线路板、ATR元件、人工晶体、天然晶体和宝石。

5. 清洗生物芯片、微流控芯片、沉积凝胶的基片。

6. 高分子材料表面的修饰。

7. 封装领域中的清洗和改性，增强其粘附性，适用于直接封装及粘和。

8. 改善粘接光学元件、光纤、生物医学材料、宇航材料等所用胶水的粘和力。

9. 涂覆镀膜领域中对玻璃、塑料、陶瓷、高聚合物等材料表面的改性，使其活化，增强表面粘附性、浸润性、相容性，显著提高涂覆镀膜质量。