1. 桌面型，性能稳定、操作简便、使用成本极低、易于维护，高性价比。

2.小身材，大容量，有效处理面积大

3.采用气浴电极，清洗效率高。

4.可选择40KHz或13.56MHz等离子发生器。

5.对各种几何形状、表面粗糙程度各异的金属、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等

物件表面进行超清洗和表面改性。

1. 真空腔规格: 不锈钢腔体,直径150mm*(深)245mm

2. 电极：平板气浴电极，材质6061-T6铝合金

3. 电极尺寸：95*170mm

4. 频率：40KHz (可选配13.56MHz射频等离子源)

5. 功率：0-300W连续可调，精度1W,可在设备运行中随时调整参数

6. 气体控制：针式气体流量阀， 0-300ml 1路气体

7. 真空计：电偶式真空计，精度：0.01mTor

8. 控制方式：4.3寸工业控制触摸屏，全手动控制和全自动控制两种控制方式

控制软件功能：界面显示实时工作状态

半导体元件清洗：光学器件、电子元件、半导体元件、激光器件、镀膜基片、终端安装等的超清洗。

光学镜片清洗：清洗光学镜片、电子显微镜片等多种镜片和载片。
去除氧化物：移除光学元件、半导体元件等表面的光阻物质，去除金属材料表面的氧化物。
芯片清洗：清洗生物芯片、微流控芯片、沉积凝胶的基片。
表面修饰：高分子材料表面的修饰。
封装领域：封装领域中的清洗和改性，增强其粘附性，适用于直接封装及粘和。
改善粘合力：改善粘接光学元件、光纤、生物医学材料、宇航材料等所用胶水的粘和力。
涂覆镀膜：对玻璃、塑料、陶瓷、高聚合物等材料表面的改性，使其活化，增强表面粘附性、浸润性、相容性，显著提高涂覆镀膜质量。
牙科领域：对钛制牙移植物和硅酮压模材料表面的预处理，增强其浸润性和相容性。

科研领域：修复学上移植物和生物材料表面的预处理，增强其浸润性、粘附性和相容性及对科研的消毒和杀菌。